H.Fukuda, S.Sakuma, T.Yamada, S.Nomura, M.Nishino, T.Higuchi and S.Ohshima: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"25^<th> International Conference on the Physics of Semiconductors (Osaka). 85 (2000)
H.Fukuda, S.Sakuma, T.Yamada, S.Nomura, M.Nishino, T.Higuchi and S.Ohshima: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"25^<th> International Conference on the Physics of Semiconductors (Osaka). 85 (2000)
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H.Fukuda、S.Sakuma、T.Yamada、S.Nomura、M.Nishino、T.Higuchi 和 S.Ohshima：“表征嵌入 SiO_2 薄膜中的 Ge 纳米晶体”第 25 届国际半导体物理会议
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