Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding dipheyl sulfone derivatives
Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding dipheyl sulfone derivatives
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通过添加二苯基砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takahiro Kozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazumasa Okamoto;Shunpei Kawai;Takahiro Kozawa
