石丸和博: "無声放電による非平衡プラズマ化学反応を用いたCVDシリコン酸化膜の特性(膜の形成と性質に及ぼす放電形態の影響)"日本機械学会論文集(B編). 69・677. 115-120 (2003)
石丸和博: "無声放電による非平衡プラズマ化学反応を用いたCVDシリコン酸化膜の特性(膜の形成と性質に及ぼす放電形態の影響)"日本機械学会論文集(B編). 69・677. 115-120 (2003)
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Kazuhiro Ishimaru：“利用无声放电的非平衡等离子体化学反应的CVD氧化硅膜的特性（放电形式对膜形成和性能的影响）”日本机械工程学会会刊（B版）69・677。 -120 (2003)
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