Annealing effects on epitaxial (K,Na)NbO<sub>3</sub> thin films grown on Si substrates
Annealing effects on epitaxial (K,Na)NbO<sub>3</sub> thin films grown on Si substrates
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退火对 Si 衬底上外延 (K,Na)NbO<sub>3</sub> 薄膜的影响
DOI：
10.35848/1347-4065/ac8143
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发表时间：
2022
影响因子：
1.5
通讯作者：
Kanno Isaku
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tanaka Kiyotaka;Ogawa Rei;Kweon Sang Hyo;Tan Goon;Kanno Isaku
