Soichiro Okamura and Tadashi Shiosaki: "Properties of Micropatterned Ferroelectric Thin Films Fabricated by Electron Beam Exposed Chemical Solution Deposition"Integrated Ferroelectrics. 232. 15-24 (1999)
Soichiro Okamura and Tadashi Shiosaki: "Properties of Micropatterned Ferroelectric Thin Films Fabricated by Electron Beam Exposed Chemical Solution Deposition"Integrated Ferroelectrics. 232. 15-24 (1999)
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Soichiro Okamura 和 Tadashi Shiosaki：“通过电子束暴露化学溶液沉积制造的微图案铁电薄膜的特性”集成铁电体。
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