T.Fujii,T.Shimizu,Y.Horiike and H.Shindo: "Silicon Trench Oxidation by Employing Oxygen Negative Ion"Proc.18th Symposium on Plasma Processing, Kyoto. 443-444 (2001)
T.Fujii,T.Shimizu,Y.Horiike and H.Shindo: "Silicon Trench Oxidation by Employing Oxygen Negative Ion"Proc.18th Symposium on Plasma Processing, Kyoto. 443-444 (2001)
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T.Fujii、T.Shimizu、Y.Horiike 和 H.Shindo：“利用氧负离子进行硅沟槽氧化”Proc.18th Symposma Process 研讨会，京都。
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