QCM measurements 0f superfluid response in 4He films up to 180 MHz
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QCM 测量 4He 薄膜中高达 180 MHz 的 0f 超流体响应
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and N. Wada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kato;M. Hieda;T. Matsushita;and N. Wada
