Effects of Deposition Temperature on Properties of InN Film Fabricated by Glancing-angle Reactive Evaporation
Effects of Deposition Temperature on Properties of InN Film Fabricated by Glancing-angle Reactive Evaporation
复制标题
沉积温度对掠射角反应蒸发InN薄膜性能的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Osamu Takai
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takahiro Tanaka;Daisuke Hoshi;Kazuya Murata;Yasushi Inoue;Osamu Takai
