Yasushi Niitsu, Tomo Ikebe, Yusei Ohkubo and Teruki Ikeda: ""Stress Evaluation of (100) Si Wafer by Raman Spectroscopy""ASME-EEP. 26-1. 859-866 (1999)
Yasushi Niitsu, Tomo Ikebe, Yusei Ohkubo and Teruki Ikeda: ""Stress Evaluation of (100) Si Wafer by Raman Spectroscopy""ASME-EEP. 26-1. 859-866 (1999)
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Yasushi Niitsu、Tomo Ikebe、Yusei Ohkubo 和 Teruki Ikeda：“通过拉曼光谱法对 (100) Si 晶圆进行应力评估”ASME-EEP。
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