高純度タングステンにおける電子線照射誘起空孔の回復挙動
高純度タングステンにおける電子線照射誘起空孔の回復挙動
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高纯钨中电子束辐照诱导空位的恢复行为
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中美穂，薮内敦，木野村淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takuya Ikeda;Toshiki Kimura;Tomohiro Endo;Akio Yamamoto;田中美穂，薮内敦，木野村淳
