アニオン性高分子修飾シリカ粒子を用いた移流集積法のよるコロイド粒子膜の作製
アニオン性高分子修飾シリカ粒子を用いた移流集積法のよるコロイド粒子膜の作製
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阴离子聚合物改性二氧化硅颗粒平流积聚法制备胶体颗粒膜
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
角 崇弘，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Wan;M. Uraji;○T. Hatanaka;角 崇弘，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
