白藤立: "真空紫外光を用いた直接光CVD法によるaーsi:H膜の製作と物性評価" 電子情報通信学会シリコン材料デバイス研究会技術研究報告. SDM89ー144. 7-11 (1989)
白藤立: "真空紫外光を用いた直接光CVD法によるaーsi:H膜の製作と物性評価" 電子情報通信学会シリコン材料デバイス研究会技術研究報告. SDM89ー144. 7-11 (1989)
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Tatsu Shirafuji：“使用真空紫外光的直接光学 CVD 方法制造和评估 asi:H 薄膜的物理性能”IEICE 硅材料和器件研究组技术研究报告 SDM89-144 (1989)。
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