SiCl4 の水素ラジカル還元による低温Si 生成
SiCl4 の水素ラジカル還元による低温Si 生成
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SiCl4氢自由基还原低温生成Si
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
角谷 正友
中科院分区：
文献类型：
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作者：
岡本 裕二;堤 大耀;石垣 隆正;Fatima Zohra Dahmani; 角谷 正友
