磁場と電場の同時印加によるMCF平面研磨の加工量特性
磁場と電場の同時印加によるMCF平面研磨の加工量特性
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磁场和电场同时施加的MCF平面抛光的加工量特性
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤平晃太朗，西田均，山本久嗣，高橋秀治，木倉宏成
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kunihiko Kodera;Nawo Eguchi;Rei Ueyama;Beatriz M Funatsu;and Claud Chantal;森谷亮太，金井理，伊達宏昭，新名恭仁，本間亮平;藤平晃太朗，西田均，山本久嗣，高橋秀治，木倉宏成
