Mechanical properties of a-C:H thin films deposited by r.f. PECVD method☆
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DOI：
10.1016/j.vacuum.2004.07.065
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发表时间：
2004-12
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
T. Itoh;N. Mutsukura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Itoh;N. Mutsukura
