西川宏之,渡辺英紀,J.H.Stathis: "シリコン熱酸化膜のフォトルミネッセンス特性に対する熱処理の影響"第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集,. No.2. p.674,6p-ZC-2 (2000)
西川宏之,渡辺英紀,J.H.Stathis: "シリコン熱酸化膜のフォトルミネッセンス特性に対する熱処理の影響"第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集,. No.2. p.674,6p-ZC-2 (2000)
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Hiroyuki Nishikawa、Hideki Watanabe、J.H. Stathis：“热处理对硅热氧化膜光致发光特性的影响”第 61 届日本应用物理学会年会论文集，第 2 期，第 674 页，6p-ZC-2 (2000)
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