Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) surfaces on commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultra high vacuum
Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) surfaces on commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultra high vacuum
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超高真空下商用氢化物气相外延和金属有机化学气相沉积衬底上获得清洁 GaN(0001) 表面的表面处理
DOI：
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发表时间：
2010
影响因子：
6.7
通讯作者：
and H. Daimon
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. N. Hattori;K. Endo;K. Hattori;and H. Daimon
