Improving the electrical performance of HfInZnO-TFI's by introducing a thin ITO interlayer

Improving the electrical performance of HfInZnO-TFI's by introducing a thin ITO interlayer
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通过引入薄 ITO 中间层提高 HfInZnO-TFI 的电气性能

DOI:
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发表时间:
2014
影响因子:
2.4
通讯作者:
Zhang, Zhi-Lin
Zhang, Zhi-Lin
中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
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作者:
Zhang, Jian-Hua;Zhu, Wen-Qing;Jiang, Xue-Yin;Zhang, Zhi-Lin

文献摘要

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