BL13XUの超高真空X線回折装置による半導体薄膜に関する最近の成果
BL13XUの超高真空X線回折装置による半導体薄膜に関する最近の成果
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使用BL13XU超高真空X射线衍射装置在半导体薄膜上取得的最新成果
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
花田貴
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. P. Gomez;H. Takakura;A. Yamamoto;A. P. Tsai;花田貴
