Effects of TiN Ruffer Layer Thickness on GaN Growth

Effects of TiN Ruffer Layer Thickness on GaN Growth
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TiN 缓冲层厚度对 GaN 生长的影响

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
Journal of Electronic Materials 38
影响因子:
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通讯作者:
K. Hirata
K. Hirata
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K. Ito;Y. Uchida;S. Lee;S. Tsukimoto;Y. Ikemoto;K. Hirata

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