イオン注入によるSiナノワイヤへの不純物ドーピング
イオン注入によるSiナノワイヤへの不純物ドーピング
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通过离子注入将杂质掺杂到硅纳米线中
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村上浩一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
深田直樹;齋藤直之;石田慎哉;横野茂輝;陣君;関口隆史;菱田俊一;村上浩一
