Etching Technology of High Dielectric Constant (High-k) and Metal Gate Materials

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高介电常数（High-k）及金属栅材料刻蚀技术

DOI：
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发表时间：
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期刊：
Semiconductor Technology Outlook 2007, Chap.4, Sec.4.5 (Electronic Journal, Tokyo, 2007)[in Japanese] (in press)
影响因子：
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通讯作者：
K.Eriguchi
K.Eriguchi
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K.Ono;K.Eriguchi

文献摘要

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