階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報)インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御
階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報)インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御
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分层精细功能结构创建的研究（第二次报告）使用过程中干涉条纹测量的多重干涉光刻的曝光控制
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masui Shuzo;Torii Yuki;Michihata Masaki;Takamasu Kiyoshi;Takahashi Satoru;増井周造，門屋祥太郎，道畑正岐，高橋哲;増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲
