An Overview of Studies on Epitaxial Growth of CeO2 Layers on Si Substrates
An Overview of Studies on Epitaxial Growth of CeO2 Layers on Si Substrates
复制标题
Si衬底上外延生长CeO2层的研究综述
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Shida and N. Sakamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Inoue;S. Shida and N. Sakamoto
