Y.Shigeta,J.Endo and K.Maki: "A characteristic feature of crystalline thin-film growth of Si on a Si(111)-7×7" Journal of Crystal Growth. (印刷中). (1996)
Y.Shigeta,J.Endo and K.Maki: "A characteristic feature of crystalline thin-film growth of Si on a Si(111)-7×7" Journal of Crystal Growth. (印刷中). (1996)
复制标题
Y.Shigeta、J.Endo 和 K.Maki:“Si(111)-7×7 上硅晶体薄膜生长的特征”《晶体生长》杂志(1996 年出版)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: