原子状水素アニール処理により改質したPEN基板の分光エリプソメトリによる評価
原子状水素アニール処理により改質したPEN基板の分光エリプソメトリによる評価
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使用光谱椭圆光度法评估原子氢退火改性的 PEN 衬底
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
部家 彰
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takao Fujimori;Kenta Fujii;Sin-ichi Ishiguro;Kenta Fujii;Kenta Fujii;Mitsunori Asada;部家 彰;A.Heya;A.Heya;A.Heya;部家 彰;部家 彰
