ナノスクラッチ試験によるSi3N4/Cu薄膜界面損傷機構
ナノスクラッチ試験によるSi3N4/Cu薄膜界面損傷機構
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纳米划痕测试Si3N4/Cu薄膜界面损伤机理
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
赤井武志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
澁谷忠弘;干強;白鳥正樹;赤井武志
