表面预处理对HfO2栅介质MOS器件
表面预处理对HfO2栅介质MOS器件
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
陈卫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
许胜国;徐静平*;李艳萍;陈卫
