Effects of gas flow rate ratio on structure of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 plasma CVD
Effects of gas flow rate ratio on structure of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 plasma CVD
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气体流量比对Ar H2 C7H8等离子体CVD沉积a-C:H薄膜结构的影响
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Fang;K. Yamaki;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;M. Shiratani
