Experimental and Theoretical Analysis of In2O3-Ga2O3-ZnO Thin Film Transistors under Constant Voltage Stress

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恒压应力下In2O3-Ga2O3-ZnO薄膜晶体管的实验与理论分析

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
J.Kwon
J.Kwon
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.Fujii;Y.Uraoka;T.Fuyuki;J.Jun;J.Kwon

文献摘要

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