Optical design for EUV Lithography source collector
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EUV光刻光源收集器的光学设计
DOI：
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发表时间：
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期刊：
Chinese Optics Letters
影响因子：
3.5
通讯作者：
Chang Liu
Chang Liu
中科院分区：
物理与天体物理2区
文献类型：
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作者：
Shuqing Zhang;Qi Wang;Dongyuan Zhu;Runshun Li;Chang Liu
文献摘要
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