絵画的奥行き手がかりの時間特性に関する検討-マスクパターンの効果-
絵画的奥行き手がかりの時間特性に関する検討-マスクパターンの効果-
复制标题
图像深度线索的时间特性研究 - 掩模图案的影响 -
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
行場次朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
丸山俊;河地庸介;行場次朗
