S.Kishida et al.: "THE PREPARATION CONDITIONS OF THE FLAT 80KーPHASE BiーSrーCaーCuーO THIN FILMS BY RF MAGNETRON SPUTTERING" Applied Surface Science. 48/49. 446-449 (1991)
S.Kishida et al.: "THE PREPARATION CONDITIONS OF THE FLAT 80KーPHASE BiーSrーCaーCuーO THIN FILMS BY RF MAGNETRON SPUTTERING" Applied Surface Science. 48/49. 446-449 (1991)
复制标题
S.Kishida 等人：“通过射频磁控管溅射制备平面 80K 相 Bi-Sr-Ca-Cu-O 薄膜”应用表面科学 48/49 (1991)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
