Isotopic fractionation of negative ions produced by Cs sputtering in a high-intensity source
Isotopic fractionation of negative ions produced by Cs sputtering in a high-intensity source
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高强度源中 Cs 溅射产生的负离子的同位素分级
DOI：
10.1016/0168-583x(94)95455-0
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发表时间：
1994
影响因子：
1.3
通讯作者：
J. Klein
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Middleton;D. Juenemann;J. Klein
