下妻 光夫,石川 基博,栃谷 元,田頭 博昭: "低周波50HzプラズマCVD法による非加熱基板上へのシリコン酸化膜生成" 電気学会論文誌A. Vol.111A. 1064-1070 (1991)

Mitsuo Shimotsuma、Motohiro Ishikawa、Hajime Tochiya、Hiroaki Tagashira：“通过低频 50Hz 等离子体 CVD 方法在未加热基板上生成氧化硅膜”日本电气工程师学会会刊 A.第 1064-1070 卷（1991 年）。