Deposition of low-k film on electrodes by C_8F_<18> plasma CVD and enhancement of gas breakdown voltage
Deposition of low-k film on electrodes by C_8F_<18> plasma CVD and enhancement of gas breakdown voltage
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C_8F_<18>等离子体CVD在电极上沉积低k薄膜并提高气体击穿电压
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.A.Bratescu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Tazawa;Y.Sakai;M.A.Bratescu
