New Type X-ray Mask Fabricated Using Inductively Coupled Plasma Deep-etching
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电感耦合等离子体深蚀刻制作的新型X射线掩模
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
雷蔚
中科院分区：
文献类型：
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作者：
陈迪;雷蔚
