K.Koga, A.Harikai, M.Kai, K.Imabeppu.T, Ogata, T.Kinoshita, M.Shiratani, Y.Watanabe: "Deposition of high quality a-Si : H films at a high rate using cluster-suppressed VHF plasma CVD method"Proc. 20th Symp. Plasma Processing. 79-80 (2003)
K.Koga, A.Harikai, M.Kai, K.Imabeppu.T, Ogata, T.Kinoshita, M.Shiratani, Y.Watanabe: "Deposition of high quality a-Si : H films at a high rate using cluster-suppressed VHF plasma CVD method"Proc. 20th Symp. Plasma Processing. 79-80 (2003)
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K.Koga、A.Harikai、M.Kai、K.Imabeppu.T、Ogata、T.Kinoshita、M.Shiratani、Y.Watanabe：“使用 cluster- 高速沉积高质量 a-Si：H 薄膜
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