南向智広, 加藤宙光 他: "ハフニウムおよびジルコニウムシリケート膜における電気特性に与える熱処理の効果"第63回応用物理学会学術講演会. 2巻. 729 (2002)
南向智広, 加藤宙光 他: "ハフニウムおよびジルコニウムシリケート膜における電気特性に与える熱処理の効果"第63回応用物理学会学術講演会. 2巻. 729 (2002)
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Tomohiro Minamimukai、Hiromitsu Kato 等：“热处理对硅酸铪和硅酸锆薄膜电性能的影响”第 63 届日本应用物理学会年会 (2002)。
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