A.Kishimoto,I.Suemune,K.Hamaoka,T.Koui,Y.Honda and M.Yamanishi: "InーSitu RHEED Monitoring of Hydrogen Plasma Cleaning on Semiconductor Surfaces." Jpn.J.Appl.Phys.29. 2273-2276 (1990)
A.Kishimoto,I.Suemune,K.Hamaoka,T.Koui,Y.Honda and M.Yamanishi: "InーSitu RHEED Monitoring of Hydrogen Plasma Cleaning on Semiconductor Surfaces." Jpn.J.Appl.Phys.29. 2273-2276 (1990)
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A. Kishimoto、I. Suemune、K. Hamaoka、T. Koui、Y. Honda 和 M. Yamanishi：“半导体表面氢等离子体清洁的原位 RHEED 监测”Jpn.J.Appl.Phys.29。 -2276 (1990)
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