中島 寛: "ECRスパッタ法によるシリコン膜及びシリコン酸化膜の低温形成"Sputtering & Plasma Processes. 18・1. 35-42 (2003)
中島 寛: "ECRスパッタ法によるシリコン膜及びシリコン酸化膜の低温形成"Sputtering & Plasma Processes. 18・1. 35-42 (2003)
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中岛宏：“通过 ECR 溅射法低温形成硅膜和氧化硅膜”《溅射与等离子体工艺》18・1（2003 年）。
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