Buffer-layer Enhanced Heteroepitaxy of Wide-bandgap Semiconductor Thin Films by Room-temperature Laser Processing
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室温激光加工缓冲层增强宽带隙半导体薄膜异质外延
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akifumi Matsuda and Mamoru Yoshimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中村稀星;内田啓貴;土嶺信男;金子智;松田晃史;吉本護;Akifumi Matsuda and Mamoru Yoshimoto;Akifumi Matsuda and Mamoru Yoshimoto
