Helium addition effect on the remote-plasma-enhanced etching of silicon-related materials using anhydrous hydrogen fluoride gas
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复制标题
氦添加对无水氟化氢气体远程等离子体增强硅相关材料刻蚀的影响
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Saito
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Nakamura;Y.Saito
