Feasibility study of mesoplasma CVD for direct production of high pure Si thin films from trichlorosilane
Feasibility study of mesoplasma CVD for direct production of high pure Si thin films from trichlorosilane
复制标题
三氯氢硅介质CVD直接制备高纯硅薄膜的可行性研究
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Yoshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Kambara;J.Fukuda;T.Yamamoto;T.Yoshida
