Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam
Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam
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酸生成剂的分子结构对化学放大抗蚀剂暴露于 75 keV 电子束时酸生成的影响
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Tagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Natsuda;T. Kozawa;K. Okamoto;and S. Tagawa
