木地 剛: "Ar^+,Si^+イオン注入Si表面のTiシリサイド反応のイオン散乱による評価" 第44回応用物理学関係連合講演会講演予稿集. 2. (1997)
木地 剛: "Ar^+,Si^+イオン注入Si表面のTiシリサイド反応のイオン散乱による評価" 第44回応用物理学関係連合講演会講演予稿集. 2. (1997)
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Tsuyoshi Kiji：“通过离子散射评估 Ar^+,Si^+ 离子注入的 Si 表面上的 Ti 硅化物反应”第 44 届应用物理学会会议记录 2。（1997 年）。
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