(Invited) Area-Selective Spatial Atomic Layer Deposition of Silicon-Based Materials
(Invited) Area-Selective Spatial Atomic Layer Deposition of Silicon-Based Materials
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（特邀）硅基材料的区域选择性空间原子层沉积
DOI：
10.1149/ma2022-02311132mtgabs
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mameli A
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mameli A
