EFFECTS OF DOPING ON POLYSILICON ETCH RATE IN A FLUORINE-CONTAINING PLASMA
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DOI：
10.1063/1.334366
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发表时间：
1985-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
BEARDO, D
中科院分区：
文献类型：
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作者：
BALDI, L;BEARDO, D
