Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool
Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool
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使用极紫外 (EUV) 曝光工具合成含碘材料及其光刻胶敏感特性
DOI：
10.2494/photopolymer.35.41
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发表时间：
2022
影响因子：
0.8
通讯作者：
Takahiro Kozawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yutaro Iwashige;Hiroto Kudo;Kazumasa Okamoto;Takahiro Kozawa
