Rapid Recrystallization of Amorphous Silicon Utilizing Very-High- Frequency Microplasma Jet at Atmospheric Pressure
Rapid Recrystallization of Amorphous Silicon Utilizing Very-High- Frequency Microplasma Jet at Atmospheric Pressure
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在大气压下利用甚高频微等离子体射流实现非晶硅的快速再结晶
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Yeo;Y.Sakurai;T.Kobayashi;H.Shirai
